想要和银河科技沟通合作,完全可以想别的办法。
比如说是刚刚达成协议的魔都市。
…
银河科技。
对于光刻工厂项目,其实上面都有些后悔了,不应该把这个项目暴光出来的。
因为光刻工厂项目是真的有落地的可能性,也可以突破半导体领域的垄断地位。
这么早曝光出来,对于后面的发展极为不利。
从光刻工厂实验工厂顺利完成芯片制造之后,发生的事情就和所预料的那样。
虽然说,王东来已经研发出了EDA设计软件和光刻胶之类的核心设备以及材料。
但这并不代表着我们就完全解决了光刻领域的技术难关。
就像是现在,在集合了全国的尖端人才,还是卡在了照明系统这里。
在光刻机里面,照明系统看似不起眼,实际却很重要。
可以这么说,能出现在光刻机里面的技术和材料,就没有一个是简单的。
工业技术皇冠的明珠,这绝对不是虚言。
回到euv光刻机上面,利用极深紫外光成像,做到原子极的光滑度,来保证光刻精度和能量效率。
镜面稍微有一点问题,或是凸起,或是凹陷,又或者尺寸不对,都会造成euv光线的严重散射和衍射,从而导致光线传播方向偏离,最后晶圆上的电路图案出现错位等问题。
芯片的良品率就不用想了,低的吓人。
而这还只是在光刻机上面,当扩大到光刻工厂的时候,情况就更加复杂了。
精度不变,但是因为规模放大了,控制准度就呈指数上升。
本来,国内的技术连光刻机里的照明系统都无法完成,达到国际一流水平。
现在,又放到了光刻工厂上面,难度自然是极大的。
固然说是之前的光刻工厂实验工厂已经获得成功,但这并不代表着就能完全照搬。
王东来把相关技术的大门都已经打开了。
原本想着以调集的全国尖端科研人才,应该是可以研发下去的。
结果,三天两头就遇到问题,然后来找王东来解决。
这也正是他一直泡在实验室里的原因。
通常遇到这样的技术难题,王东来就算是再怎么谈起,也会在第一时间解决。